Lithographie aux ultraviolets extrêmes : ASML atteint une puissance de 250 W
Ce qui correspond à 125 galettes exposées par heure

Le , par dourouc05, Responsable Qt
Pour les prochains processus de fabrication de processeurs (7 nm ou 5 nm), les techniques de lithographie se baseront très probablement sur le rayonnement aux ultraviolets extrêmes (EUV). Cependant, la technologie a longtemps souffert d’une puissance relativement faible : elle était limitée à 185 W l’année dernière, ASML vient de la porter à 250 W (avec quatre ans de retard sur les plans initiaux). Il aura fallu cinq ans à l’entreprise pour dépasser les premiers prototypes, avec une puissance d’à peine 25 W en 2012.

Avec cette augmentation, l’EUV devient intéressant d’un point de vue commercial : il devient possible de produire cent vingt-cinq galettes par heure et par machine (par rapport aux quatre-vingt-cinq de l’année dernière). En effet, plus la puissance est importante, moins une galette doit rester longtemps dans la machine.

D’ailleurs, le succès commercial de la machine d’ASML (seule firme présente sur le marché de l’EUV, Canon poursuivant une voie similaire mais distincte) ne cesse de se démentir : la compagnie a déjà livré vingt-sept machines (notamment, à Intel, TSMC, GlobalFoundries ou encore Samsung), plus trois ces trois derniers mois ; huit autres ont été précommandées. Globalement, ASML annonce un chiffre d’affaires de presque trois milliards d’euros pour ces ventes, à raison de cent millions l’unité.

Les fabricants qui passent à l’EUV avec ce genre de machines n’ont pas uniquement pour objectif de graver plus finement leur silicium : pour une finesse équivalente, l’EUV devrait permettre de limiter la complexité du processus de fabrication. Actuellement, il faut une série d’expositions de la même galette de silicium (trois ou quatre fois) pour atteindre les finesses d’une dizaine de nanomètres ; grâce à l’EUV, il suffirait d’une seule exposition — l’avantage étant aussi en temps de fabrication pour le même nombre de puces.

Sources : Chipmaschinenausrüster: ASML demonstriert 250-Watt-EUV-System, ASML Claims Major EUV Milestone.


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Avatar de NahMean NahMean - Membre averti https://www.developpez.com
le 10/08/2017 à 11:31
Ce qui correspond à 125 galettes exposées par heure
C'est les bretons qui vont être contents ...

Avatar de MaximeCh MaximeCh - Membre averti https://www.developpez.com
le 10/08/2017 à 12:22
Pour compléter un peu, j'ai trouvé des lectures de très bon niveau de la part d'ASML sur la stratégie du groupe.
Notamment "litho today, litho tomorrow" de 2016. On y voit l'ambition d'atteindre 240 wafers par heure sur le node 7nm, alors qu'avec les 250W en question ils n'en sont aujourd'hui qu'à 125Wph (et aussi le fait qu'ils sont pas mal en retard sur leur roadmap ).

L'article de Wikipédia En sur l'EUV est aussi très bon, faut s'accrocher question technique.

--- fin de la partie semi-intéressante, début de ma déblatération
Question mise à niveau hardware personnelle, ça peut-être intéressant d'attendre la génération de machines EUV suivante, donc de sauter les Zen2 d'AMD et CannonLake d'Intel en 2018-2019, histoire de pas essuyer les plâtres de l'EUV et d'avoir des tarifs très abordables une fois le process maîtrisé?

Edit : et aussi dourouc05, en plus du merci, pourquoi ne pas regrouper les news EUV sur un même thread? l'information serait plus facile à retrouver!
Avatar de dourouc05 dourouc05 - Responsable Qt https://www.developpez.com
le 10/08/2017 à 15:08
Citation Envoyé par MaximeCh Voir le message
pourquoi ne pas regrouper les news EUV sur un même thread? l'information serait plus facile à retrouver!
Merci pour la suggestion, c'est fait !
Avatar de steel-finger steel-finger - Membre habitué https://www.developpez.com
le 10/08/2017 à 16:38
merci pour la news
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