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La lithographie inverse enfin praticable
D2S arrive à déterminer la meilleure manière d'utiliser les machines actuelles pour imprimer un processeur complet en à peine un jour de calculs

Le , par dourouc05

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Les problèmes inverses sont fortement étudiés, de manière générale, en science. L'idée est de trouver quel signal génère une sortie donnée : par exemple, on cherche comment activer les servomoteurs d'un bras robotisé (un signal) pour obtenir une pose donnée (ce problème particulier s'appelle cinématique inverse). Ce domaine des mathématiques appliquées est aussi utile pour la lithographie, l'impression des processeurs : comment faire pour créer un motif donné sur la plaque de silicium ?

De manière générale, les problèmes inverses ne sont simples à résoudre que dans le cas linéaire, c'est-à-dire presque aucun cas pratique. Dans le cas de la lithographie inverse, des solutions existent depuis longtemps, mais sont impraticables à cause des temps de calcul : on peut les utiliser pour régler de petits problèmes dans les processeurs à imprimer, mais pas pour concevoir entièrement la manière d'imprimer un processeur (c'est-à-dire concevoir les masques d'exposition).

D2S, une jeune entreprise américaine, propose de faire revivre le concept, avec une accélération à base de GPU. TrueMask ILT permet de résoudre le problème de lithographie inverse en à peine une journée de calculs, pour un processeur complet. Pour y arriver, ils utilisent de manière conjointe une série de GPU et de CPU, sans partitionner de manière arbitraire le processeur en plusieurs régions.

De la sorte, les concepteurs de processeurs pourraient imprimer des transistors très petits avec les technologies actuelles, en laissant des algorithmes découvrir la meilleure manière d'utiliser la technologie actuelle : le travail d'ingénierie se retrouverait ainsi raboté d'une bonne partie de sa raison d'être, au contraire de la recherche plus fondamentale.

Source : IEEE Spectrum.

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Avatar de Steinvikel
Membre expérimenté https://www.developpez.com
Le 29/09/2019 à 8:47
la source fini par :
bien que l'ILT (techno. de litho. inverse) ne soit pas nécessaire actuellement pour l'EUV, car utilisant une longueur d'onde de 13,5 nm qui est plus petite que les "features", les fabricant de puces poursuivent la loi de Moore. Ce qui rendra l'ILT utile pour l'EUV également.

Le principal avantage de l'ILT est de réduire le nombre de masques nécessaire par couche.

Devons-nous comprendre que l'on peut s'attendre à voir un gains entre prochaines génération encore plus marqué ?
--> des cellules mémoires plus fiables, des CPU avec une meilleure efficacité énergétique, et moins cher car moins de perte (gravure plus précise oblige).
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